英特尔公司今天在两年内举行了第一次投资者会议上，新的CEO，姒蕊剥，亲自加入了战斗，揭示未来的许多产品和技术计划，给投资者。
首先是这个过程。英特尔承认，它在10纳米工艺中风险太大，并且设置了太高的技术指标，这导致了反复的延迟。在未来，它将重新定义新流程开发中的预期指标，而不是搜索过高。
具体而言，14nm工艺（标准功率为10nm）将继续增加产能以满足市场需求。 10纳米工艺（标准功率7 MW）将在今年晚些时候推出，而服务器将在明年上半年。
英特尔7纳米工艺将在标准中制造5纳米，目前的计划是在2021年开始生产和推出相关产品。
自从10纳米的批量生产放在货架上以来不到两年。显然，它会大大加速。看起来英特尔确实学到了10纳米课程，必须调整7纳米来加速市场。
与此同时，英特尔将继续每道工序优化为当前一代14nm制，即+++很多版本仍然会出现，但不会提高台积电还是三星（11Nm/8nm的/6海里））。
10nm的披挂上阵，今年和10nm + 10nm的++相继出现，明年7处出现在2021年，并在2022和2023，以及7处7处+ ++连续引入。
英特尔将使用EVU紫外线光刻技术在7个纳米工艺在第一时间，但目前还不清楚他们是否会在第一代被添加或类似于等待改进版的第二代TSMC的。

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